
退火炉是在半导体器件造作中使用的一种工艺,其蕴含加热多个半导体晶片以影响其电机能。热处置是针对分歧的成效而设计的�D芄患尤染约せ畈粼蛹�,将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面,使致密沉积的薄膜,扭转成长的薄膜的状态,建复注入的危险,移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。
退火炉能够集成到其他炉子处置步骤中,例如氧化,或者能够自己处置。退火炉是由专门为加热半导体晶片而设计的设备实现的。退火炉是节能型周期式作业炉,超节能结构,选取纤维结构,节电60%。
退火炉按热源分类重要有电热炉、燃煤退火炉、燃油退火炉、天然气退火炉、煤气退火炉等,其中以自备煤气发生炉所产煤气退火炉利用较宽泛。煤气退火窑减去了点火室,直接利用煤气烧嘴在加热室喷射点火。为了降低能耗,煤气退火窑往往配有换热系统,将空气转换为助燃热风进行煤气的助燃。